Für die nächste Generation von Lithographietechniken, wie EUV und Multibeam Elektronenstrahltechnik, werden am Fraunhofer IOF feinmechanische und optische Komponenten und Systeme entwickelt. Schwerpunkte der Entwicklung sind die Konstruktion von Komponenten und Systemen mit athermalen Eigenschaften aus Low Expansion Materials wie ZERODUR, ULE Glas oder Keramiken sowie das vakuumgerechte Design der Systeme für das Hochvakuum bis hin zum Ultrahochvakuum. Die modernen Baugruppen und Systeme werden in der Regel bis zum Demonstrator ausgeführt und unter Nutzung von speziellen Versuchsständen hinsichtlich der optischen, mechanischen oder thermischen Eigenschaften analysiert.
Folgende Komponenten und Systeme werden aktuell entwickelt:
- Elektrostatische Chucks und Unterdruckchucks
- Masken- und Wafersubstrathalter
- Metrologiesysteme
- Elektrostatische Ablenksysteme für Korpuskularstrahlung
- Tischsysteme für die Messtechnik und Lithographie (Normalatmosphäre und Vakuum)