Schichten und Schichtsysteme für den extrem ultravioletten Spektralbereich
Die Optikentwicklung fokussiert sich seit einigen Jahren zunehmend auf Optikkomponenten für immer kürzere Wellenlängen. Begründet ist dieser Trend zum einen in der Forderung nach Erhöhung des Auflösungsvermögens optischer Systeme und zum anderen in der Verfügbarkeit leistungsfähiger Strahlquellen im extrem ultravioletten (EUV) und weichen Röntgenbereich.
Neue Anwendungsbereiche von Optiken für kurze Wellenlängen
Herausragende Anwendungen von EUV- und Röntgenoptiken sind neben der EUV-Lithographie (λ = 13,5 nm) auch Anwendungen in der Astronomie, Beamline-Optiken für Synchrotrons, Optiken für Röntgenlaser und zukünftig XFELs. Darüber hinaus besteht auch großes Potenzial für die Mikroskopie im sogenannten Wasserfenster (λ = 2,4 nm ... 4,4 nm). In diesem Spektralbereich sind viele biologische Proben transparent und somit besonders gut zugänglich für Untersuchungen. Die extrem kurzen Wellenlängen ermöglichen bisher nie dagewesene Auflösungen und damit völlig neuartige Untersuchungsmetoden in Biologie und Medizin. Reflexionswerte von 5.2 % bei 2,48 nm und 20 % bei 3,1 nm wurden durch Vielschichtsysteme auf Basis von Chrom, Vanadium und Scandium erreicht.
Unser Leistungangebot auf dem Gebiet der EUV/XUV-Beschichtungen
Wir bieten Kunden aus Industrie und Forschung ein umfassendes Leistungsspektrum an, das vom Design optischer Schichtsysteme über die Entwicklung von Beschichtungsprozessen für unterschiedliche Anwendungen bis hin zur Charakterisierung von EUV-Bauteilen reicht.
