Die Optikentwicklung fokussiert sich seit einigen Jahren zunehmend auf Optikkomponenten für immer kürzere Wellenlängen. Begründet ist dieser Trend zum einen in der Forderung nach Erhöhung des Auflösungsvermögens optischer Systeme und zum anderen in der Verfügbarkeit leistungsfähiger Strahlquellen im extrem ultravioletten Spektralbereich (EUV) und im weichen Röntgenbereich.

Herausragende Anwendungen von EUV- und Röntgenoptiken sind neben der EUV-Lithographie (λ = 13,5 nm): Mikroskopie im »Wasserfenster« (λ = 2,3 nm … 4,4 nm), Astronomie, Beamline-Optiken für Synchrotrons, Röntgenlaser und zukünftig XFELs.