Die EUV-Lithographie mit einer Wellenlänge von 13,5 nm gilt als das bisher aussichtsreichste Herstellungsverfahren für zukünftige Generationen von Computerchips mit Strukturbreiten weit unter 22 nm. Am Fraunhofer IOF werden kundenspezifische Komponenten und Systeme für die EUV-Lithographie entwickelt.

Ultrakurze Laserpulse ermöglichen das Erreichen von hohen Spitzenintensitäten. Diese erlauben eine Reihe fundamentaler Untersuchungen. Ein besonders interessantes Phänomen tritt auf, wenn die Pulse in ein Gas fokussiert werden. Dabei wird kohärente Strahlung im extremen Ultraviolettbereich erzeugt.