Das Fraunhofer IOF hat langjährige Erfahrungen auf dem Gebiet der Entwicklung von Komponenten und Schaltungen der Wellenleiteroptik für verschiedene Einsatzfelder. Neben Anwendungen für die optische Signalübertragung und die Sensorik werden u. a. innovative Ansätze für die wellenleiterinterne Strahlformung von Breitstreifenlasern entwickelt.
Zur Wellenleiterherstellung stehen maskenbasierte sowie direktschreibende lithographische Verfahren für verschiedene Materialien zur Verfügung.
Die Standard-Herstellungstechnologie basiert auf der UV-Belichtung von Schichtstapeln aus organisch-anorganischen Hybridpolymeren oder anderen acrylatbasierten Materialien in einem Mask-Aligner.
Für das Wellenleiterdesign werden kommerzielle und eigens entwickelte Software verwendet.
Zur Wellenleitercharakterisierung stehen m-Linienspektroskopie, Dämpfungsmessung sowie ein RNF-Messplatz zur Bestimmung der Brechzahlverteilung im Wellenleiterquerschnitt zur Verfügung.
Funktionsanalysen werden mit Quellen und Empfängern vom UV- bis zum NIR-Bereich vorgenommen.
