Grautonlithographie

Neuigkeiten aus der Grautonlithographie am Fraunhofer IOF

 

Für die schnellere und einfachere Produktion von Freiform-Mikrooptiken

Am Fraunhofer IOF wurde die Systemreihe »HighFive« zur hochdynamischen Grautonlithographie entwickelt. In enger Zusammenarbeit mit der Industrie wurde das nächste System der Generation »HighFive-C« am Fraunhofer IOF realisiert.

Hochpräzise Mikrostrukturierung auf verschiedensten Substraten

Als äußerst flexibles direkt-schreibendes Verfahren ermöglicht die maskenlose Grautonlithographie die Erzeugung hochpräziser Mikrostrukturen und Oberflächenprofilen für den Einsatz in optischen Systemen. So werden in enger Zusammenarbeit mit Design und Integration individuelle Lösungen für refraktive oder diffraktive mikrooptische Elemente auch auf nicht standardisierten oder nicht ebenen Oberflächen realisiert.

 

Technische Parameter

  • An Mikrooptik angepasstes, vielfältig einsetzbares Lithographiesystem
  • Hochdynamische Dosiskontrolle bei 405 nm Belichtungswellenlänge
  • Maximal addressierbarer Bereich:  0.5 × 0.5 m2
  • Strukturierung moderat-gekrümmter Substrate möglich


Anwendungsbeispiele

  • Sphärische oder asphärische Linsen und Linsenarrays in regulärer oder irregulärer Anordnung mit hoher Packungsdichte
  • Diffraktive Korrekturelemente für sphärische und chromatische Aberrationen
  • Elemente zur Strahlformung
  • Effiziente (Blaze)-Gitter und CGHs
  • Deterministische Diffraktiv-Refraktiv-Hybrid Diffusoren
  • Prismatische Strukturen und Retroreflektoren
  • Mikro-Freiform-Profile
  • (Mehrlagen-)Lithographie für zahlreiche Materialien und verschiedenste Substratformen

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Wir entwickeln auch im Bereich der Grautonlithographie maßgeschneiderte Lösungen für Industrie und Wissenschaft.

Wir forschen und entwickeln im Auftrag der Wirtschaft und Wissenschaft

Bei Fragen zur Zusammenarbeit mit dem Fraunhofer IOF finden Sie unter folgendem Link weitere Informationen:

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