Laserstrahllithographie

Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF

Laserlithographie auf Ebenen und gekrümmten Oberflächen: Mikrolinsen auf konkavem Substrat.
Laserstrahllithographie auf ebenen und gekrümmten Oberflächen: Mikrolinsen auf konkavem Substrat.

Mikrostrukturierte optische Oberflächen erfordern speziell angepasste Herstellungsverfahren. Die direktschreibende Laserstrahllithographie stellt hierfür ein hochflexibles Werkzeug dar. Insbesondere lassen sich durch Verfahren wie dem Schreiben mit variabler Dosis in einem einzigen Lithographieschritt dreidimensionale Oberflächenprofile erzeugen. Diese werden für effiziente diffraktive Elemente, geblazte Gitter, Linsenarrays oder mikrooptische Strahlformungselemente benötigt.