Beschichtungstechnologie
Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF
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- DC Magnetronsputtersystem NESSY
- Hochvakuumbedampfungsanlagen Leybold SYRUS pro 1100 und APS 904 ausgerüstet mit Widerstands- und Elektronenstrahlverdampfern, optischen Monitorierungssystemen OptiMon und Plasmaionenquellen APS
- Hochvakuumbedampfungsanlage Balzers BAK 640 für das thermische Aufdampfen organischer Verbindungen
- Sputteranlage MRC I zur Abscheidung von EUV-/Röntgenschichtsystemen mit Substratgrößen bis 300 mm x 300 mm
- Sputteranlagen MRC II, MRC III und MRC IV zur Abscheidung von metallischen/dielektrischen Schichten/Schichtsystemen mit Substratgrößen bis 300 mm x 300 mm
- Sputteranlagen NESSY I und NESSY II zur Abscheidung von EUV-/Röntgenschichtsystemen mit Substratgrößen bis ∅ 650 mm
- Sputteranlage PRECICOAT zur Abscheidung von metallischen/dielektrischen Schichten/Schichtsystemen mit Substratgrößen bis 500 mm x 500 mm
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