Oberflächen- und Schichtcharakterisierung
Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF
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- EUV-Kollektor im ALBATROSS-Streulichtmesssystem.
| Laborausstattung, Messsysteme | Typ / Hersteller | Aufgabe (Messbereich/Auflösung/Genauigkeit) |
| Streulichtmessung | ||
| Winkelaufgelöste Streulichtmessung "Albatross" | Eigenbau | Verlustmechanismen, Nanostr., Partikel, Defekte ( UV - VIS – IR) (157 nm - 1064 nm) |
| Winkelaufgelöste Streulichtmessung - "Vulstar" | Eigenbau | Verlustmechanismen, Nanostr., Partikel, Defekte (VUV: 157, 193 nm) |
| Totale Streulichtmessung | Eigenbau | Verlustmechanismen, Nanostr., Partikel, Defekte (157 nm - 10,6 µm) |
| Streulicht- und Reflexionsmesssystem bei 13 nm - "Merlin" | Eigenbau | Verlustmechanismen, Nanostr. |
| Streulichtbasierter Rauheitssensor "horos" | Eigenbau | Verlustmechanismen, Nanostr., Partikel, Defekte |
| table-top Streulichtmesssystem "Albatross TT" | Eigenbau | Verlustmechanismen, Nanostr., Partikel, Defekte |
| Spektralphotometer (120 nm - 50 µm) | ||
| Rasterkraftmikroskopie (AFM) | ||
| AFM 1 | VEECO D3100 (2002) | Nanostrukturen |
| AFM 2 | VEECO D3000 (1996) | Nanostrukturen |
| Large Range AFM | SIS Nanostation 300 | Nanostrukturen |
| Rasterelektronenmikroskopie | Philips | |
| Laserscanningmikroskop | ||
| Weißlichtinterferometrie (WLI) |
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| WLI 1 | Eigenbau | Nano- und Mikrostrukturen < 2 nm RMS (Messbereich bis 100 µm), < 25 nm RMS (Messbereich bis 500 µm), |
| WLI 2 | Zygo NewView 7300 | Nano- und Mikrostrukturen (< 1 nm vertikale Auflösung, Messfelder 50x50 µm bis 5x5 mm, Stiching bis mehrere Quadratmillimeter, automatisierte Abläufe) |
| WLI 3 | Zygo New 6000 | Nano- und Mikrostrukturen (< 1 nm RMS, Neigungsanpassung durch schwenkbaren Messkopf) |
| Konfokale Mikroskopie | Zeiss LSM 510 | Nano- und Mikrostrukturen |
| Nomarski-Mkroskopie (DIC) | Leica | Nanostrukturen, Defekte |
| Laserratiometrische T,R - Messsung im VUV (157 nm, 193 nm) | Eigenbau | |
| Röntgenreflektometrie (XRD), -reflektometer | ||
| Bruker D8 | Schichtdicke, Rauhigkeit, Dichte, Kristallstruktur (Wellenlänge 0.154nm) | |
| Bruker D5005 | Schichtdicke, Rauhigkeit, Dichte, Kristallstruktur (Wellenlänge 0.154nm) | |
| Mikroskopphotometrie | Zeiss | T/R-Messung (UV/VIS) |
| Spektroskopische Ellipsometrie | ||
| Mechanische Profilometrie (Talysurf 6c, Talysurf PGI+) | TaylorHobson | Oberfläche: Form und Rauhigkeit (Messbereich 120 x 100 mm, Kalibrierung auf 100 nm) |
| Messtechnik zum Test von Lebensdauer und Haftfestigkeit optischer Schichten, Klimaprüfung | ||
| Mikroskop mit Bildverarbeitung | Olympus | Nanostrukturen, Defekte (Mikroskop BX 51 (DIC)) |
| Mikroskop mit Bildverarbeitung | Olympus | Nanostrukturen, Defekte (Stereomikroskop SZX 9) |
| FTIR-Spektrometer | Varian | Polymeroberflächen, Schichten einschl. ATR, IRRAS |
| Kontaktwinkelmessplatz (statisch) | Eigenbau | |
| Kontaktwinkelmessplatz (statisch, dynamisch) | Dataphysics DCA 20 | Flüssigkeitskontaktwinkel |
| Autofokus-System | UBM | |
| VUV-Spektrometer | LZH | 120-230nm, Ts,Tp,Rs,Rp bei 0-80° |
| UV/VIS/NIR-Spektrometer | PE Lambda 19 | 180-3000nm, 6° und 45° |
| UV/VIS/NIR-Spektrometer | PE Lambda 900 | 170-3000nm, 6° und 45° |
| UV/VIS-Spektrometer | PE Lambda 850 | 170-900nm |
| Faserspektrometer | Zeiss MCS 400 | 200-1000nm, bis 500°C |
| OptiMon | Eigenbau | 400-920nm, 4ms Messdauer |
| UV-Mikroskop | Leica | |
| Spektrales Autofokusmikroskop + Software MarkIII | Miroprof/ Jurca, FRT | 100mm x 100mm (scannend), zmax300µm , dz10nm, Schicht 25...200µm |
| Schichtdickenmesssystem/ spektrale Reflexion | FTP advanced/ Sentech | 50nm...30µm, zeitabhängig, Bibliothek n,k (400...900nm) |
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