Forschen für die Zukunft

Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF

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Durch Lösungen mit Licht Kommunikation verbessern und Informationsfluss optimieren

Informations- und Kommunikationstechnologien – allen voran das Internet – haben unser Leben nachhaltig verändert und sich als wegweisend für Unternehmen, Mensch und Gesellschaft erwiesen. Das Licht wird dabei immer mehr zur entscheidenden Komponente. Bereits jetzt werden über 90% aller Informationen mit Hilfe von Licht transportiert. Und auch zukünftig werden optische Netzwerke mit Übertragungsraten im Terabitbereich die enormen und stetig wachsenden Datenmengen bewältigen.

Neben der Übertragung von Informationen ist auch deren Visualisierung eine Domäne der Photonik. Das Spektrum reicht dabei von großformatigen Displays über integrierte Bildschirme in elektronischen Geräten bis hin zu energiesparenden und flexiblen OLED-Displays.

Photonische Technologien sind entscheidend für die Herstellung der zukünftigen Generation von Computerchips mit kleinsten Strukturbreiten von 22 nm. Dies garantiert die Einhaltung des Taktes der Halbleiterindustrie, des Mooreschen Gesetzes, das die Verdopplung der Zahl der Transistoren pro Chip alle zwei Jahre in Aussicht stellt.

Optiken für die EUV-Lithografie

  • Kollektorspiegel für die EUV-Lithografie

    Die EUV-Lithographie mit einer extrem kurzen Wellenlänge von nur 13,5 nm gilt als das bisher aussichtsreichste Herstellungsverfahren für die zukünftige Generationen von Computerchips mit Strukturbreiten weit unter 22 nm.

  • Lebensdauer von EUV-Optiken

    In der EUV-Lithografie zählen die Erhöhung der Lebensdauer und die Vermeidung von Kontamination der Optiken zu den größten Herausforderungen. In Zusammenarbeit mit namhaften Unternehmen der Halbleiterbranche wurden am Fraunhofer IOF Lösungsansätze zur Verbesserung der Optiklebensdauer erarbeitet.

  • Fluorreaktive Präparation von Fluorid- und Oxidfluoridschichten für das UV

    Klassische Fluoridschichten zeigen bei der Herstellung bei hohen Temperaturen (300 °C) ausgezeichnete Eigenschaften. Insbesondere ist die Packungsdichte hoch und die Transmission vom UV- bis in den IR-Bereich exzellent. Daraus resultieren die vielfältigen Anwendungen sowohl in Massenprodukten wie einfachen Entspiegelungsschichten als auch in Hochtechnologien wie Excimerlaser-Optiken und Schichten für die UV-Lithographie in der Mikroelektronik.

Kompakte Abbildungs- und Projektionssysteme

  • Ultrakompaktes Abbildungssystem erhöhter Lichtstärke

    Miniaturisierte Kameras sind heute ein integraler Bestandteil einer Vielzahl von Produkten aus dem Bereich der Kommunikations- und Unterhaltungselektronik sowie der Sensorik. Allerdings sind der Verringerung der Baugröße der verwendeten Kameraoptik neben den technologischen auch physikalische Grenzen gesetzt. Einen vielversprechenden Weg die letztgenannte Limitation zu überwinden, bieten Vorbilder aus der Natur wie beispielsweise Insekten.

  • Ultraflache Array-Projektionsoptik

    Array-Projektoren und deren Optikschema überwinden die Limitationen einkanaliger Projektionssysteme und ermöglichen extrem flache, dafür lateral ausgedehnte, mikrooptische Projektionssysteme großer Helligkeit.

Weiterführende Informationen