Computer-generierte Hologramme (CGHs) ermöglichen die kontaktfreie, interferometrische Vermessung anspruchsvoller optischer Oberflächen, wie z. B. Asphären oder Freiformen, mit Genauigkeiten < 10 nm RMS. Für die Realisierung dieser Genauigkeiten bedarf es einer hochpräzisen lithographischen Herstellung und der Verwendung spezieller Substrate
mit Ebenheiten im Sub-100nm-Bereich.
Unser Leistungsangebot:
- Optisches Design von Phasenfunktionen und Layout
- Bereitstellung und Korrektur von Substraten (transmittierter Wellenfrontfehler < 10 nm RMS)
- Lithographische Herstellung
- Charakterisierung der Positioniergenauigkeit
- Messung des transmittierten Wellenfrontfehlers
Lithographische Prozesskette
- Beschichtung des Substrats mit Chrom und Photoresist
- Belichtung mittels Elektronenstrahl-Lithographie
- Strukturtransfer in Chrommaske durch reaktives Ionenätzen (RIE)
- Strukturtransfer in Substrat durch RIE
- Entfernen der Chrommaske (auch selektiv möglich)
Technische Parameter
- Verfügbare Substratgrößen:
- 6-Zoll (152 x 152 x 6,35) mm
- 9-Zoll (230 x 230 x 9) mm
- ET (292 x 150 x 15) mm
- Positioniergenauigkeit Belichtungsprozess < 20 nm (3σ)