Diffraktive optische Elemente

Kundenspezifische Mikro- und Nanooptik

Das Fraunhofer IOF bietet das Design, die fertigungsoptimierte Datengeneration, die Herstellung und die optische Charakterisierung von diffraktiven optischen Elementen für EUV- bis FIR-Anwendungen inklusive Bearbeitung und Montage zu Systemen an.

 

Herstellung

  • Resisttechnologie (chemisch verstärkt)
  • Mehrstufige Lithographie auf der Elektronenstrahlanlage VISTEC SB350 OS
  • Reaktives Ionenstrahlätzen

 

Technologisches Umfeld

  • Substratpolitur (IBF): bis 9 Zoll
  • Beschichtungstechnologie (HRC, ARC)
  • UV – Abformung, Nanoimprint
  • Wafersägen & UP-Bearbeitung
  • Wafer Scale – Integration
  • Mikromontage

 

Technische Parameter: Elektronenstrahl-Lithographie / Ätzen

  • Standardsubstrate: bis 12 Zoll (Sondersubstrate und -materialien auf Anfrage)
  • Minimale Strukturbreite: < 65 nm
  • CD Toleranz: ± 10 nm
  • Adressraster: 1 nm
  • Überdeckungsgenauigkeit: ± 20 nm
  • Aspektverhältnis Ätzen: ≤ 1:10
  • Ätztiefentoleranz: ± 10 nm

 

Charakterisierung

  • Mikroskopie (UV, REM, FIB, AFM)
  • Beugungseffizienz, polarisationssensitv
  • Streulichtanalyse
  • Wellenfrontmessung: bis 11 Zoll

 

Anwendungsbeispiele

  • Strahlteilung, -formung, -ablenkung
  • Computer Generierte Hologramme
  • Photonische Kristalle, Effektive Medien
  • fs – Pulskompressionsgitter