Mikrolinsenarrays

Hybride Integration

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Lithographie, RIE sowie UV-Abformung zeichnen sich durch hohe laterale Präzision aus. Somit kann die Periode eines Linsenarrays sub-µm-genau an die Periode eines weiteren Linsenarrays oder an die Periode von Faser-, Detektor- oder Empfängerarrays angepasst werden, eine Grundvoraussetzung für den Aufbau mikrooptischer Systeme.

Die Integration kann im Wafermaßstab erfolgen.

 

Typische Beispiele sind:

  • UV-Abformung auf VCSEL oder Detektorwafer
  • Multifunktionselemente durch Kombination von Technologien
  • Doppelseitige UV-Abformung im Mask Aligner
  • Beidseitig RIE geätzte Strukturen
  • Beschichtung; neben der Entspiegelung können Schichtbauelemente wie Filter, Strahlteiler etc. integriert werden
  • Elektrodenstrukturen
  • Blendenstrukturen, sowohl metallisch als auch absorbierender Kunststoff

Erst am Ende wird der Wafer vereinzelt in mikrooptische Subsysteme.