Einzelapertur-Abbildungssysteme in Wafer-Level

Optisches Design

  • Optisches Design unter Berücksichtigung technologischer Randbedingungen (Wafer-Level-Fertigung unter Nutzung von UV-Replikation, Polymerspritzguss, GRIN-Linsen u. a.)
  • Analyse von Toleranzen, Falschlicht, thermischem Verhalten

 

Prototypenherstellung

Wafer Level:

  • Komponentenherstellung basierend auf UV-Replikation
  • Erstellung arrayhafter Replikationsmaster mittels wiederholter Abformung eines ultra-präzisionsbearbeiteten Einzellinsenstempels (Step&Repeat Prozess)

Hybride Integration:

  • Kombinationen verschiedener Linsenmaterialien (Polymer, Glas, GRIN) unter Nutzung angepasster Fügeverfahren (Kleben, Laserlöten); aktive und passive Montage

 

Charakterisierung

Bestimmung optischer Systemparameter (Brennweite, MTF, relative Bildhelligkeit u. a.) von Einzelobjektiven oder Objektiven auf Wafer Level.

 

Unser Angebot

Design, Prototypenherstellung und Charakterisierung mikrooptischer Abbildungsoptiken für kundenspezifische Anwendungen.