Nanostrukturierte Entspiegelungen AR-plas^® und AR-plas2

Breitband-Antireflexschichten, universell anwendbar für Quarz, Glas und Kunststoff

Die patentierten Prozesse AR-plas^® und AR-plas2 kombinieren dünne aufgedampfte Schichten mit nanostrukturierten Schichten. Die sehr niedrigen effektiven Brechzahlen der Nanostrukturen ermöglichen perfekte Übergänge zur Luftbrechzahl. Sehr breite Spektralbereiche und hohe Lichteinfallswinkel können adressiert werden. Die Technologie eignet sich besonders für eine serienmäßige Beschichtung optischer Teile mit einer Größe von wenigen Millimetern bis zu 25 Zentimetern.

Unser Leistungsangebot

• Optimierte Entspiegelung entsprechend der Kundenspezifikation für breite Spektralbereiche (300 nm bis 2500 nm) und Lichteinfallswinkelbereiche (0° bis 75°) für beliebige Substratmaterialien (u. a. Kunststoff, Glas und Quarz)
• Entspiegelung von Musterteilen und Kleinserien aus Polymeren wie PMMA, PC, OKP, Zeonex, EP-8000, Apel und vielen anderen
• Realisierung weiterer Oberflächenfunktionen:
  • Superhydrophob oder superhydrophil (Antifog-Eigenschaften)
  • Schwarz, mit hoher Absorption
  • Elektrisch leitfähig/ antistatisch
• Lizenzvergabe für die patentierten Technologien AR-plas^® und AR-plas2
• Oberflächen- und Schichtcharakterisierungen, u. a. exakte Messung der Reflexion entlang gekrümmter Oberflächen

Erklärungen zu unserer Technologie AR-plas^® und zur Weiterentwicklung AR-plas2

AR-plas^®

• Die Strukturbildung im Prozess AR-plas^® erfolgt durch Selbstorganisation in einem organischen Material (Polymer oder aufgedampfte organische Verbindung) durch Plasmaätzen im Vakuum. Vorteilhaft ist die Durchführung des Prozesses in einer industriekompatiblen Plasma-IAD Anlage, welche die gleichzeitige Behandlung großer Stückzahlen erlaubt.
  Die funktionalisierten Oberflächen sind mechanisch empfindlich und daher besonders für entsprechend geschützte Bereiche geeignet.
• Datenblatt: AR-plas^® Entspiegelung von Kunststoffoptiken durch Plasmaätzen  
  

AR-plas2

• Die Weiterentwicklung dieser Technologie bietet geringste Reflektivität vom UV bis zum nahen IR und zeigt ausgezeichnete Beständigkeit in Klimatests. Auch extreme Lichteinfallswinkel und Polarisationsneutralität können adressiert werden. Das Verfahren nutzt Kombinationen aus anorganischen dünnen Schichten und Nanostrukturen. Die Schichten sind weitgehend frei von organischen Bestandteilen.
• Datenblatt: AR-plas2 broadband antireflective coatings