Mikro- und Nanostrukturierung

Die Erzeugung und Replikation optischer Mikro- und Nanostrukturen ist Grundlage für moderne komplexe optische Systeme. Die am Institut vorhandene technologische Basis, wie z. B. Photo- und Laserlithographie, Elektronenstrahllithographie und reaktives Ionenätzen, erlaubt die Fertigung und Charakterisierung von High-End mikro- und nanooptischen Elementen höchster Auflösung auf bis zu 12"-Substraten, auch auf gekrümmten Oberflächen.

 

Photolithographie

Lithographische Techniken erlauben die simultane Herstellung einer großen Zahl von Elementen mit höchster lateraler Genauigkeit...
 

Grautonlithographie

Die maskenlose Grautonlithographie ermöglicht die Erzeugung hochpräziser Mikrostrukturen und Oberflächenprofile für den Einsatz in optischen Systemen...
 

Drucken funktionaler Materialien

Das Drucken funktionaler Materialien ist ein ressourcenschonendes Verfahren, mit dem u.a. bereits Polymerelektronik, organische LED...
 

Stochastische Strukturen zur Entspiegelung

Stochastische Strukturen entstehen völlig selbstorganisiert oder initiiert durch dünne Schichten nach Plasma- und Ionenstrahleinwirkungen...
 

Elektronenstrahl- lithographie

Mikro- und nanostrukturierte Optiken sind über Methoden der Lithographie darstellbar, wobei die technologischen Anforderungen an die Lithographiesysteme...

 

UV-Abformung

Die UV-Abformung ist ein kostengünstiges Verfahren zur Herstellung von Mikrooptik im Wafermaßstab. Dazu wird in einem Kontakt-Mask-Aligner...
 

Kombination von Lithographie, Trockenätzen und Abformung

Die Herstellung von Mikrolinsenarrays durch Reflow von Photoresist und anschließendem Transfer über reaktives Ionenätzen (RIE) ist eine etablierte Technologie...
 

Abformwerkzeuge

Die im Fraunhofer IOF vorhandene Ultrapräzisions-Bearbeitungstechnik ist mit folgenden Systemen ausgerüstet...