Die UV-Abformung ist ein kostengünstiges Verfahren zur Herstellung von Mikrooptik im Wafermaßstab. Dazu wird in einem Kontakt-Mask-Aligner flüssiges Polymerharz zwischen einem Substrat (z.B. Glas- oder Halbleiterwafer) und einem transparenten Abformwerkzeug UV-gehärtet.

Das Verfahren hat sich in den Bereichen etabliert, wo die Präzision oder Stabilität von All-Polymer-Optik nicht ausreicht, z.B. bei:

• Kollimation von Laser- oder Faserarrays
• Diffraktiven Elementen
• Mikrooptik direkt auf CMOS-Si-Wafern
• Wafer-Level Miniaturkameras

oder weiteren komplexen/mehrlagigen mikrooptischen Systemen.

Durch selektive UV-Belichtung können Bereiche der Substratoberfläche für elektrische Kontakte oder für die Montage frei von Polymer bleiben.

UV-Abformung kann auch zur schnellen Erzeugung von optischen Funktionsmustern vor einer Massenfertigung (z.B. mit Spritzguss) eingesetzt werden.

Die Verwendung entsprechend stabiler UV-härtbarer Polymerharze erlaubt die nachfolgende Beschichtung/Vereinzelung und weitere Schritte wie z.B. Löten oder Bonden.