Elektronenstrahllithographie

Fraunhofer-Institut für Angewandte Optik und Feinmechanik IOF

Elektronenstrahllithogrphisch erzeugtes Quarzgitter (200 mm x 200 mm, Periode 1µm).
Elektronenstrahllithographisch erzeugtes Quarzgitter (200 mm x 200 mm, Periode 1µm).
© Fraunhofer IOF: Thomas Ernsting

Mikro- und nanostrukturierte Optiken sind über Methoden der Lithographie darstellbar, wobei die technologischen Anforderungen an die Lithographiesysteme und -prozesse signifikant von denen der Mikroelektronik abweichen und in vielen Punkten darüber hinausgehen.

Das Fraunhofer IOF besitzt langjährige Kompetenz auf dem Gebiet der Realisierung anspruchsvoller optischer Mikro- und Nano-Strukturen.

Schlüsseltechnologien sind die Elektronenstrahllithographie zur Urbilderzeugung und Transferprozesse ausgehend vom Urbild (Strukturübertragung durch Ätzprozesse) und deren Replikation (Strukturübertragung durch Nano-Abformung).

Die verfügbare technologische Ausstattung ermöglicht die effiziente Realisierung solcher Strukturen auf Flächen bis 300 mm Ausdehnung mit höchster Präzision und Auflösung.