Motivation
Der Erfolg der Optischen Technologien wird entscheidend von der Qualität und Funktionalität der optischen Komponenten, speziell deren Oberflächen, geprägt. Dabei haben sich Prozessplasmen als unverzichtbares Hilfsmittel für die Herstellung funktionaler Schichtsysteme erwiesen.
Herausforderung
Können oxidische Schichten durch Plasmaabscheidung inzwischen weitgehend dicht und absorptionsarm hergestellt werden, ist die Plasmaabscheidung fluoridischer Schichten nach wie vor problematisch, da dichte und zugleich absorptionsarme Fluoridschichten trotz umfangreicher Optimierungsarbeiten bisher nicht erreicht worden sind.
Ziel
Die Zielstellung des vom Fraunhofer IOF koordinierten PluTO Projekts ist es daher, die Dünnschicht- und Plasmatechnologien zusammenzuführen.
Im Ergebnis soll ein vertieftes Verständnis der physikalischen Mechanismen gewonnen werden, die für den Einfluss der Plasmaeinwirkung auf die Schichteigenschaften verantwortlich sind. Gleichzeitig werden geeignete Monitorierungswerkzeuge zur Prozessüberwachung identifiziert und bereitgestellt.