Mikro- und nanostrukturierte Optik

Die Erzeugung und Replikation optischer Mikro- und Nanostrukturen ist Grundlage für moderne komplexe optische Systeme. Die am Fraunhofer IOF vorhandene technologische Basis – wie z. B. Grautonlithographie, Elektronenstrahllithographie, reaktives Ionenätzen, Step & Repeat Replikation, Wafer-Level- Fertigung oder auch Abformtechniken – erlauben die Fertigung und Charakterisierung von High-End mikro- und nanooptischen Elementen höchster Auflösung auf bis zu 12"-Substraten und auch auf gekrümmten Oberflächen. Anwendungsfelder sind zum Beispiel Beugungsgitter, CGHs (Computergenerierte Hologramme), Mikrolinsen-Arrays, Diffusoren oder auch stochastische Strukturen. Lithographische Techniken erlauben die simultane Herstellung einer großen Zahl von Elementen mit höchster lateraler Genauigkeit. Als äußerst flexibles direkt-schreibendes Verfahren ermöglicht die maskenlose Grautonlithographie die Erzeugung hochpräziser Mikrostrukturen und Oberflächenprofilen.

 

Photolithographie

Lithographische Techniken erlauben die simultane Herstellung einer großen Zahl von Elementen mit höchster lateraler Genauigkeit...
 

Grautonlithographie

Die maskenlose Grautonlithographie ermöglicht die Erzeugung hochpräziser Mikrostrukturen und Oberflächenprofile für den Einsatz in optischen Systemen...
 

Maßgeschneiderte Diffusoren

Diffusoren mit maßgeschneiderten Oberflächenprofilen ermöglichen die effiziente Transformation der Lichtverteilung einer Quelle in eine gewünschte Winkelverteilung.

 

Drucken funktionaler Materialien

Das Drucken funktionaler Materialien ist ein ressourcenschonendes Verfahren, mit dem u.a. bereits Polymerelektronik, organische LED...
 

Stochastische Strukturen zur Entspiegelung

Stochastische Strukturen entstehen völlig selbstorganisiert oder initiiert durch dünne Schichten nach Plasma- und Ionenstrahleinwirkungen...
 

Elektronenstrahllithographie

Mikro- und nanostrukturierte Optiken sind über Methoden der Lithographie darstellbar, wobei die technologischen Anforderungen an die Lithographiesysteme...

 

UV-Abformung

Die UV-Abformung ist ein kostengünstiges Verfahren zur Herstellung von Mikrooptik im Wafermaßstab. Dazu wird in einem Kontakt-Mask-Aligner...
 

Kombination von Lithographie, Trockenätzen und Abformung

Die Herstellung von Mikrolinsenarrays durch Reflow von Photoresist und anschließendem Transfer über reaktives Ionenätzen (RIE) ist eine etablierte Technologie...
 

Abformwerkzeuge

Die im Fraunhofer IOF vorhandene Ultrapräzisions-Bearbeitungstechnik ist mit folgenden Systemen ausgerüstet...
 

Step & Repeat Replikation

Das Step & Repeat Verfahren ermöglicht die parallele und kostengünstige Replikation von mikrooptischen Bauelementen zur Herstellung von großen Stückzahlen.

 

Materialien der Optik und Photonik

Metamaterialien, Plasmonik, Photonische Kristalle, Materialien der Mikrooptik, Siliziumoptik