Für spektroskopische Anwendungen bieten wir Reflexions- und Transmissionsgitter mit Linienzahlen von bis zu 3500 Linien/mm an. Diese Gitter decken ein breites Spektrum von UV über VIS und NIR bis hin zu SWIR ab und sind sowohl für niedrige als auch für hohe spektrale Auflösungen ausgelegt. Typische Einsatzgebiete sind Umweltanalytik, astronomische Spektroskopie und industrielle Prozessüberwachung.
Unser Schwerpunkt ist die Entwicklung von maßgeschneiderten Gitterkonzepten für Raumfahrtmissionen – wie z. B. ESA GAIA oder Sentinel 4 – und erdgebundene Astronomie – wie z.B. NIRPS. Unsere Gitter zeichnen sich durch hohe Effizienz, geringe Polarisationssensitivität (<3 %) sowie hohe optische Qualität (Wellenfrontgenauigkeit, Streulicht) aus.
Die Gitter werden mit Elektronenstrahl-Lithografie gefertigt, was die Realisierung verschiedenster Gitterkonzepte, wie z.B. binärer Gitter, Blaze-Gitter und Echelle-Gitter ermöglicht, auch unter Berücksichtigung von Gitteroptimierungen mittels Metastrukturen.
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