Wir entwickeln mikro- und nanostrukturierte optische Elemente mit kompromissloser Präzision für die anspruchsvollsten photonischen Anwendungen. Mit lithografischen Verfahren wie Grauton- und Elektronenstrahllithografie entwickeln und fertigen wir Metaoberflächen, Beugungsgitter, CGHs und Mikrolinsenarrays mit Nanometer Genauigkeit auf der Waferskala bis 300 mm an. Replikationstechniken ergänzen die Fertigung für größere Stückzahlen. Unser Portfolio umfasst auch aktive photonisch-integrierte Schaltkreise (PICs), für die Quantentechnologie und Telekommunikation.