Computergenerierte Hologramme zur Oberflächenvermessung

Optik Design und Datengenerierung

Wir entwickeln Optikdesigns, die exakt zu Ihren Messaufgaben passen – vom Einfach- bis zum Doppelspiegel, rund oder eckig. Neben der reinen Optikfläche integrieren wir Justagestrukturen für CGH- und Spiegeljustage, um eine schnelle, reproduzierbare Ausrichtung und höchste Messgenauigkeit zu gewährleisten.

Unsere innovative Datengenerierung für die lithographische Herstellung der CGHs nutzt als Eingabe sowohl unsere eigenen Designs als auch Ihre Vorgaben. Stellen Sie uns Ihre CGH-Designs als Phasenfunktion bereit – wir konvertieren diese mithilfe eigener, kontinuierlich weiterentwickelter Algorithmen in die benötigte Binärstruktur.

Substratveredelung

Für Präzisionsvermessungen von Oberflächen ist die Fehlerminimierung der Ausgangssubstrate von großer Wichtigkeit. Wir können unsere Substrate vor der lithografischen Bearbeitung interferometrisch vermessen und mit Ionenstrahlbearbeitung korrigieren. Eine Standardkorrektur ist eine Verbesserung der transmittierten Wellenfront auf < 10 nm RMSt über die genutzte Apertur.

Lithografische Fertigung

Ein Alleinstellungsmerkmal unserer Elektronensrahl Lithografie Anlage ist der geringe Positionsfehler der Strukturen über die gesamte Substratgröße (< 20 nm (3σ)). Diese Genauigkeit ist besonders für die Anwendung der Oberflächenvermessung essenziell. Für den Ätztransfer existieren Standardprozesse für Mask-Blanks der Größe 6“ und 9“ (152mm x 152mm x 6,35mm und 230mm x 230mm x 9mm). Die Ätztiefe der Binärstrukturen wird so gewählt, dass die 0. Beugungsordnung unterdrückt wird.

Bei Bedarf können die CGHs auch mit mehr als zwei Höhenstufen gefertigt werden, um die Effizienz der gebeugten Welle zu erhöhen.