Motivation
Nanostrukturen mit Antireflex-Eigenschaften werden durch Plasmaätzen auf verschiedenen Polymeren erzeugt. Die Strukturen entstehen dabei selbstorganisierend oder nach Aufbringen einer dünnen Initialschicht. Sie sind zunächst sehr empfindlich gegen Verschmutzungen.
Durch zusätzlich aufgebrachte dünne Schichten werden die Oberflächen mechanisch geschützt und in ihrem Benetzungsverhalten vielfältig modifiziert.
Hydrophobe Oberflächen mit »easy-to-clean« Eigenschaft
Mit Schichtkombinationen, die Fluoralkylsilane als Hydrophobierungsmittel enthalten, wird z. B. auf PMMA Superhydrophobie erreicht. Fingerabdrücke werden dadurch leichter entfernt.
- PMMA: Reinigung mit wässriger Tensidlösung
- Zeonex: Reinigung mit Tuch/Ethanol
- Kontaktwinkel: > 150°
- Abrollwinkel auf PMMA: < 10°
Hydrophile Oberflächen mit Antifog-Eigenschaft
Dünne Oxidschichten verleihen den strukturierten Oberflächen Antibeschlag-Eigenschaften. Alternativ ist die direkte Antireflex-Strukturierung von wasseraufnehmenden Polymeren möglich.