horos – Kompakter optischer Rauheitssensor

Oberflächen- und Schichtcharakterisierung

Laborausstattung, Messsysteme

Typ / Hersteller

Aufgabe (Messbereich/Auflösung/Genauigkeit)

Streulichtmessung

   

Winkelaufgelöste Streulichtmessung »Albatross«

Eigenbau

Verlustmechanismen, Nanostr., Partikel, Defekte (UV – VIS – IR) (157 nm - 1064 nm)

Winkelaufgelöste Streulichtmessung - »Vulstar«

Eigenbau

Verlustmechanismen, Nanostr., Partikel, Defekte (VUV: 157, 193 nm)

Totale Streulichtmessung

Eigenbau

Verlustmechanismen, Nanostr., Partikel, Defekte (157 nm - 10,6 µm)

Streulicht- und Reflexionsmesssystem
bei 13 nm – »Merlin«

Eigenbau

Verlustmechanismen, Nanostr.

Streulichtbasierter Rauheitssensor »horos«

Eigenbau

Verlustmechanismen, Nanostr., Partikel, Defekte

table-top Streulichtmesssystem »Albatross TT«

Eigenbau

Verlustmechanismen, Nanostr., Partikel, Defekte

Spektralphotometer (120 nm - 50 µm)

   

Rasterkraftmikroskopie (AFM)

   

AFM 1

VEECO D3100 (2002)

Nanostrukturen

AFM 2

VEECO D3000 (1996)

Nanostrukturen

Large Range AFM

SIS Nanostation 300

Nanostrukturen

Rasterelektronenmikroskopie

Philips

 

Laserscanningmikroskop

   

Weißlichtinterferometrie (WLI)

   

WLI 1

Eigenbau 

Nano- und Mikrostrukturen < 2 nm RMS (Messbereich bis 100 µm), < 25 nm RMS (Messbereich bis 500 µm)

WLI 2

Zygo NewView 7300

Nano- und Mikrostrukturen (< 1 nm vertikale Auflösung, Messfelder 50 x 50 µm bis 5 x 5 mm, Stiching bis mehrere Quadratmillimeter, automatisierte Abläufe)

WLI 3

Zygo New 6000

Nano- und Mikrostrukturen (< 1 nm RMS, Neigungsanpassung durch schwenkbaren Messkopf)

Konfokale Mikroskopie

Zeiss LSM 510

Nano- und Mikrostrukturen

Nomarski-Mikroskopie (DIC)

Leica

Nanostrukturen, Defekte

Laserratiometrische T,R - Messsung im VUV
(157 nm, 193 nm)

Eigenbau

 

Röntgenreflektometrie (XRD), -reflektometer

   
 

Bruker D8

Schichtdicke, Rauhigkeit, Dichte, Kristallstruktur (Wellenlänge 0.154 nm)

 

Bruker D5005

Schichtdicke, Rauhigkeit, Dichte, Kristallstruktur (Wellenlänge 0.154 nm)

Mikroskopphotometrie

Zeiss

T/R-Messung (UV/VIS)

Spektroskopische Ellipsometrie

   

Mechanische Profilometrie (Talysurf 6c, Talysurf PGI+)

TaylorHobson

Oberfläche: Form und Rauhigkeit (Messbereich 120 x 100 mm, Kalibrierung auf 100 nm)

Messtechnik zum Test von Lebensdauer und Haftfestigkeit optischer Schichten, Klimaprüfung

   

Mikroskop mit Bildverarbeitung

Olympus

Nanostrukturen, Defekte (Mikroskop BX 51 (DIC))

Mikroskop mit Bildverarbeitung

Olympus

Nanostrukturen, Defekte (Stereomikroskop SZX 9)

FTIR-Spektrometer

Varian

Polymeroberflächen, Schichten einschl. ATR, IRRAS

Kontaktwinkelmessplatz (statisch)

Eigenbau

 

Kontaktwinkelmessplatz (statisch, dynamisch)

Dataphysics DCA 20

Flüssigkeitskontaktwinkel

Autofokus-System

UBM

 

VUV-Spektrometer

LZH

120 - 230 nm, Ts,Tp, Rs, Rp bei 0-80°

UV/VIS/NIR-Spektrometer

PE Lambda 19

180 - 3000 nm, 6° und 45°

UV/VIS/NIR-Spektrometer

PE Lambda 900

170 - 3000 nm, 6° und 45°

UV/VIS-Spektrometer

PE Lambda 850

170 - 900 nm

Faserspektrometer

Zeiss MCS 400

200 - 1000 nm, bis 500° C

OptiMon

Eigenbau

400 - 920 nm, 4ms Messdauer

UV-Mikroskop

Leica

 

Spektrales Autofokusmikroskop + Software MarkIII

Miroprof/ Jurca, FRT

100 mm x 100 mm (scannend), zmax 300 µm, dz 10 nm, Schicht 25...200 µm

Schichtdickenmesssystem/ spektrale Reflexion

FTP advanced/ Sentech

50 nm...30 µm, zeitabhängig, Bibliothek n,k (400...900 nm)