Hochpräzise Mikrostrukturierung auf verschiedenen Substraten
Ein sehr flexibles Verfahren ist die Laserstrahllithographie zur Erzeugung hochpräziser Mikrostrukturen für den Einsatz in optischen Systemen. Es werden in enger Zusammenarbeit mit Design und Integration individuelle Lösungen für refraktive oder diffraktive mikrooptische Elemente auch auf nicht standardisierten oder nicht ebenen Oberflächen realisiert.
Technische Parameter
- Laserstrahllithographieanlage DWL400 von Heidelberg Instruments mit Modifikation für Freiformbelichtungen
- Belichtung bei 442 nm Wellenlänge
- 1 μm kleinster Fokusdurchmesser
- Max. strukturierbarer Bereich: 8 x 8 Zoll2
- Substratdicken: bis 30 mm
- Substratverkippung: um +/- 10°
- Substratkrümmungsradius: >10 mm
Realisierung von mikrooptischen Elementen
- Berechnung, Layouterstellung und Generieren von Belichtungsdaten für verschiedene Anwendungen
- Herstellen von Fotolackstrukturen mit Laserstrahllithographie, z. B. als:
- Master für UV Replikation
- Maske für RIE (reactive ion etching) Proportionalübertrag in das Substrat
Anwendungsbeispiele
- Sphärische / asphärische Linsen und -arrays in regulärer oder gechirpter Anordnung
- Strahlformungselemente
- Korrekturelemente für sphärische und chromatische Aberrationen nach Möglichkeit direkt auf sphärischer Oberfläche
- Effiziente Gitter und CGHs
- Lithographie (auch Multilayer) auf nahezu beliebiger Substratgeometrie