Mikrolinsenarrays

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Motivation

Reproduzierbare Herstellung von Mikrolinsen mit durch optische Designrechnungen optimierten Parametern.

 

Technologie

  • Mastering durch Grautonlithographie oder binäre Maskenlithographie mit Reflow
  • Abformen durch UV-Reaktionsguss oder
  • Übertragung in Silizium, Glas oder Quarz durch Trockenätzen
  • Antireflex-Beschichtung, Vereinzelung
  • Integration von Blenden-/Filterstrukturen
  • Beidseitige Strukturierung (Tandemarrays)

 

Geometrie der Linsenarrays

  • Sphärische, zylindrische oder elliptische Linsen; Höhe bis 100 μm
  • Layout und Brennweite variierend über das Array / den Wafer (»Chirp«)
  • Linsendurchmesser: 5 μm – 3000 μm
  • Auflösung / Linsenabstände: 1 μm
  • Hoher Füllfaktor, laterale Präzision
  • Brennweitenhomogenität: ±1 % über Wafer
  • Asphären möglich durch speziellen reaktiven Ionenätzprozess (RIE)
  • 100 % Füllfaktor von Arrays durch RIE gestütztes Mastering möglich

 

Vervielfältigung durch Abformung auf prozessierten Wafern (CMOS, VCSEL)

  • Dünner Polymerfilm auf Glas, Si, etc.
  • Hohe laterale und axiale Präzision
  • Hohe chemische / thermische Stabilität

 

Anwendungen

  • Laser- / Faser-Kollimation
  • Strahlformungsoptik, Homogenisierung
  • Füllfaktorerhöhung von Empfängerarrays
  • Displaytechnik / Gesichtsfeldanpassung
  • Miniaturisierte Abbildungsoptik, Sensoren