Atomlagenabscheidung für optische Beschichtungen (ALD)

Die Vorteile von ALD:

• Konformes Dünnfilmwachstum auf nano-/mikrostrukturierten Substraten, wie Gitter, poröse Membranen oder auf Substraten mit komplexen Formen, wie Linsen, Fasern, Halbkugeln etc.
• Maßgeschneiderte Materialeigenschaften durch Verbundmaterialien und Nanolaminate
• Präzise Kontrolle der Schichtdicken in Sub-Nanometer-Bereichen
• Geringe Oberflächenrauheit
• Hohe Gleichmäßigkeit und Reproduzierbarkeit  
  

Wir bieten eine breite Materialpalette an und führen auf Wunsch auch maßgeschneiderte Materialentwicklung durch:

• Organische oder hybrid organisch-anorganische MLD Beschichtungen (Moleküllagenabscheidung)
• Verbundmaterialien mit maßgeschneiderter Zusammensetzung und Eigenschaften
• Oxide (TiO₂, Ta₂O₅, HfO₂, Al₂O₃, SiO₂)
• Nanoporöse Oxide (SiO₂, Al₂O₃)
• Doping von Dünnschichten
  
• Nanolaminate
• Metalle (Ir, Ru)
• Nitride

Zusätzlich bieten wir verschiedene Charakterisierungs- und Materialbehandlungsmöglichkeiten wie:
 

• Spektrophotometrie, Ellipsometrie, XRR, XRD, AFM, REM, etc.
• Thermische Stabilität und Tempern
• Chemische Stabilität und nasschemisches Ätzen
• Handhabung von feuchtigkeitsempfindlichen Subtraten unter inerter Atmosphäre

Wir unterstützen Ihre Anwendung durch den Einsatz funktioneller  ALD - Beschichtungen:
 

• Interferenzschichtsysteme wie Bandpassfilter, Strahlteiler, Polarisatoren, Spiegel usw.
• Antireflexbeschichtungen
• Röntgenoptiken
• Photonische Kristalle
• Polarisatoren
• Diffraktive optische Elemente
• Hochleistungstransmissions- oder Reflexionsgitter
• Resonanzwellenleiter
• Füllen von nanostrukturierten Materialien
• Biokompatible oder antibakterielle Oberflächen
• Hydrophobe oder hydrophile Beschichtungen
• Barriere- und Schutzbeschichtungen
• Diffusionsmembranen
• Verkapselung, Faserbeschichtung, Metamaterialien, Sensoren usw.

Ihr Substrat & unsere Beschichtung
machen den Unterschied!