Die Vorteile von ALD:
- Konformes Dünnfilmwachstum auf nano-/mikrostrukturierten Substraten, wie Gitter, poröse Membranen oder auf Substraten mit komplexen Formen, wie Linsen, Fasern, Halbkugeln etc.
- Maßgeschneiderte Materialeigenschaften durch Verbundmaterialien und Nanolaminate
- Präzise Kontrolle der Schichtdicken in Sub-Nanometer-Bereichen
- Geringe Oberflächenrauheit
- Hohe Gleichmäßigkeit und Reproduzierbarkeit
Wir bieten eine breite Materialpalette an und führen auf Wunsch auch maßgeschneiderte Materialentwicklung durch:
- Organische oder hybrid organisch-anorganische MLD Beschichtungen (Moleküllagenabscheidung)
- Verbundmaterialien mit maßgeschneiderter Zusammensetzung und Eigenschaften
- Oxide (TiO2, Ta2O5, HfO2, Al2O3, SiO2)
- Nanoporöse Oxide (SiO2, Al2O3)
- Doping von Dünnschichten
- Nanolaminate
- Metalle (Ir, Ru)
- Nitride