EUV- und Röntgenoptiken

Die Optikentwicklung fokussiert sich seit einigen Jahren zunehmend auf Optikkomponenten für immer kürzere Wellenlängen. Begründet ist dieser Trend zum einen in der Forderung nach Erhöhung des Auflösungsvermögens optischer Systeme und zum anderen in der Verfügbarkeit leistungsfähiger Strahlquellen im extrem ultravioletten Spektralbereich (EUV) und im weichen Röntgenbereich.

Herausragende Anwendungen von EUV- und Röntgenoptiken sind neben der EUV-Lithographie (λ = 13,5 nm): Mikroskopie im »Wasserfenster« (λ = 2,3 nm … 4,4 nm), Astronomie, Beamline-Optiken für Synchrotrons, Röntgenlaser und zukünftig XFELs.

Ultrakurze Laserpulse ermöglichen das Erreichen von hohen Spitzenintensitäten. Diese erlauben eine Reihe fundamentaler Untersuchungen. Ein besonders interessantes Phänomen tritt auf, wenn die Pulse in ein Gas fokussiert werden. Dabei wird kohärente Strahlung im extremen Ultraviolettbereich erzeugt.

Joseph von Fraunhofer Preis 2012

Leistungsschub für Mikrochips