EUV-Breitbandspiegel

Motivation

Periodische Multilayer-Spiegel für den EUV-Spektralbereich reflektieren nur in einem eingeschränkten Wellenlängen- und Winkelbereich (typisch für 13,5 nm: FWHM = 0,5 nm bzw. FWHM = 10°). Neue Schichtdesigns erlauben eine Vervielfachung des nutzbaren Bereichs. Die Anwendungen von EUV-Breitbandspiegeln sind vielfältig und reichen von der Beschichtung von High-NA Optiken für die EUV Lithografie über bis zur Maximierung der integralen Reflektivität bei Verwendung breitbandiger EUV-Quellen bis zu Optiken für Attosekundenpulse.

 

Kompetenzen

  • Berechnung von vertikalen Schichtdickegradienten (z-Gradient) unter Verwendung stochastischer oder determinierter Design-Ansätze
  • Umsetzung theoretischer Multilayer-Designs zur Fertigung von EUV-Breitbandspiegeln
  • Optimierung des Multilayer-Designs bezüglich Wellenlänge, Einfallswinkel, integraler Reflexion, Phasenverhalten (chirped mirror)

 

Unser Angebot

  • Design, Fertigung und Charakterisierung von Breitbandspiegeln für den EUV-Spektralbereich nach kundenspezifischen Anforderungen
  • Optimierung auf Wellenlängenbereiche, z. B. 13 - 14 nm, 12,5 - 15,5 nm
  • Optimierung auf Winkelbereiche, z. B. 0° - 20° , 0° - 30°
  • Beschichtung verschiedener Substratmaterialien (z. B. Quarzglas, Silizium, ULETM, Zerodur®)
  • Beschichtung verschiedener Substratgeometrien (z. B. eben, sphärisch, asphärisch) bis zu einem Durchmesser von 650 mm