EUV-Schmalbandspiegel

Motivation

Herkömmliche Multilayer-Spiegel für den EUV-Spektralbereich reflektieren in einem schmalen Wellenlängenbereich (typisch für 13,5 nm: FWHM = 0,5 nm bzw. FWHM = 10°) und sind daher als Monochromatoren verwendbar, allerdings nur mit geringer Auflösung. Am Fraunhofer IOF wurden neue Schichtdesigns entwickelt, mit denen die Auflösung um ein Vielfaches verbessert wird. Die Anwendungen von EUV-Schmalbandspiegeln sind vielfältig und reichen von Monochromatoren für breitbandige EUV-Quellen bis zur Separation höherer Harmonischer im EUV-Spektralbereich.

 

Kompetenzen

  • Berechnung von Schmalbanddesigns unter Verwendung patentierter Design-Ansätze
  • Umsetzung theoretischer Multilayer-Designs zur Fertigung von EUV-Schmalbandspiegeln
  • Optimierung des Multilayer-Schmalband-Designs bezüglich Bandbreite und Maximalreflexion für verschiedene Wellenlängen und Einfallswinkel

 

Unser Angebot

  • Design, Fertigung und Charakterisierung von Schmalbandspiegeln für den EUV-Spektralbereich nach kundenspezifischen Anforderungen
  • Optimierung der Bandbreite für verschiedene Wellenlängen und Einfallswinkel
  • Beschichtung verschiedener Substratmaterialien (z. B. Quarzglas, Silizium, ULETM, Zerodur®)
  • Beschichtung verschiedener Substratgeometrien (z. B. eben, sphärisch, asphärisch) bis zu einem Durchmesser von 650 mm