Wellenleiteroptiken

Das Fraunhofer IOF hat langjährige Erfahrungen auf dem Gebiet der Entwicklung von Komponenten und Schaltungen der Wellenleiteroptik für verschiedene Einsatzfelder. Neben Anwendungen für die optische Signalübertragung und die Sensorik werden u. a. innovative Ansätze für die wellenleiterinterne Strahlformung von Breitstreifenlasern entwickelt.

Zur Wellenleiterherstellung stehen maskenbasierte sowie direktschreibende lithographische Verfahren für verschiedene Materialien zur Verfügung.

Maskenbasiertes lithographisches Herstellungsverfahren

Die Standard-Herstellungstechnologie basiert auf der UV-Belichtung von Schichtstapeln aus organisch-anorganischen Hybridpolymeren oder anderen acrylatbasierten Materialien in einem Mask-Aligner.

Die Herstellung von Glaswellenleitern durch Ionenaustausch betreibt die Fraunhofer IOF Ausgründung »GRINTECH GmbH«.

Direktschreibendes lithographisches Herstellungsverfahren

Das Direktschreibverfahren mit ultrakurzen Laserpulsen ermöglicht komplexe dreidimensionale Strukturen, die konventionelle Methoden nicht realisieren können. Einerseits ist die Realisierung der Wellenleiter in Polymeren durch Zwei-Photonenabsorption möglich, andererseits durch Direkteinschreiben in diverse Gläser oder Kristalle.

Wellenleiterdesign, Wellenleitercharakterisierung und Funktionsanalysen

Für das Wellenleiterdesign werden kommerzielle und eigens entwickelte Software verwendet.

Zur Wellenleitercharakterisierung stehen m-Linienspektroskopie, Dämpfungsmessung sowie ein RNF-Messplatz zur Bestimmung der Brechzahlverteilung im Wellenleiterquerschnitt zur Verfügung.

Funktionsanalysen werden mit Quellen und Empfängern vom UV- bis zum NIR-Bereich vorgenommen.