Grautonlithographie für großflächige mikrooptische Bauelemente

Grautonlithographie

Hochpräzise Mikrostrukturierung auf verschiedensten Substraten
 

Als äußerst flexibles direkt-schreibendes Verfahren ermöglicht die maskenlose Grautonlithographie die Erzeugung hochpräziser Mikrostrukturen und Oberflächenprofilen für den Einsatz in optischen Systemen. So werden in enger Zusammenarbeit mit Design und Integration individuelle Lösungen für refraktive oder diffraktive mikrooptische Elemente auch auf nicht standardisierten oder nicht ebenen Oberflächen realisiert.

 

Technische Parameter

  • An Mikrooptik angepasstes, vielfältig einsetzbares Lithographiesystem
  • Hochdynamische Dosiskontrolle bei 405 nm Belichtungswellenlänge
  • Maximal addressierbarer Bereich:  0.5 × 0.5 m2
  • Strukturierung moderat-gekrümmter Substrate möglich


Anwendungsbeispiele

  • Sphärische oder asphärische Linsen und Linsenarrays in regulärer oder irregulärer Anordnung mit hoher Packungsdichte
  • Diffraktive Korrekturelemente für sphärische und chromatische Aberrationen
  • Elemente zur Strahlformung
  • Effiziente (Blaze)-Gitter und CGHs
  • Deterministische Diffraktiv-Refraktiv-Hybrid Diffusoren
  • Prismatische Strukturen und Retroreflektoren
  • Mikro-Freiform-Profile
  • (Mehrlagen-)Lithographie für zahlreiche Materialien und verschiedenste Substratformen