Optikcharakterisierung

Optikcharakterisierung

Für die Systementwicklung und Analyse ist die Messtechnik überaus wichtig. Daher charakterisiert das Fraunhofer IOF neue Komponenten und überprüft realisierte Systeme.

Desweiteren fließen Messgrößen z. B. zu Streueigenschaften, Leuchtdichteverteilung oder der Modulationsübertragungsfunktion (MTF) direkt in den Design-Prozess ein. Hierzu hält das Fraunhofer IOF folgende Messplätze vor:

• MTF, Brennweite, Abbildungsmaßstab
• Leuchtdichte, Nah- und Fernfeld
• Spektrometer
• Laserstrahlanalyse
• Streulichtanalyse von optischen und nicht-optischen Oberflächen
  
• Mikrodisplaycharakterisierung
• Freiformcharakterisierung und Vermessung spiegelnder Objekte
  
• Vermessung von Freiformen durch computer generierte Hologramme (CGH)
  
• Deflektrometrie
  

Wellenleitercharakterisierung

Das Fraunhofer IOF charakterisiert Wellenleiter durch folgende Messmethoden:

• m-Linienspektroskopie
• Dämpfungsmessung
• RNF-Messplatz zur Bestimmung der Brechzahlverteilung im Wellenleiterquerschnitt

Charakterisierung Organischer LED (OLED)

Die Kenntnis des Strahlungsfelds von OLED als neue, flache Lichtquellen ist für das Beleuchtungsdesign oder für OLED basierte Messysteme wichtig und liefert wertvolle Hinweise für die Systemoptimierungen.

Das Fraunhofer IOF verfüht deshalb über folgende Messmethoden:

• Vermessung des polarisations-, winkel und wellenlängenaufgelösten Strahlungsfeldes in Luft bzw. im Substratglas
• Integrale Messungen mit Ulbricht Kugel
  
• Winkelaufgelöste Messungen mit V-(Lambda) Detektor

Der Vergleich mit rigorosen optischen Simulationen ermöglicht die Ableitung der molekularen Emittereigenschaften aus dem Strahlungsfeld: 

• Internes Elektrolumineszenzspektrum
• Profil der Emissionszone
• Dipolorientierung
• Quanteneffizienz der Lumineszenz